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SVAC-FilmLab-B 箱式鍍膜設備
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SVAC-FilmLab-B 箱式鍍膜設備

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真空系統(tǒng)配置:分子泵、機械泵、插板閥。
最大樣品尺寸:6英寸。
外形尺寸:1400 x 900 x 2000mm。
可集成電子束、熱蒸發(fā)、磁控濺射等多個沉積模塊。
PLC/觸摸屏控制。
真空腔室尺寸:Φ400-500MM。

極限真空:小于5×10-5Pa。

保壓數(shù)據(jù)V2

11.png


真空度數(shù)據(jù):

12.png


性能模塊:

1、磁控濺射模塊:

圖片2.png圖片1.png

圖片4.png圖片3.png

圖片5.png


2、電子束:

電子束蒸發(fā)均勻性

14.png

注:在4寸/6寸范圍內(nèi)取9個點,均勻性值=(Tmax-Tmin)/2(Tmax+Tmin)


蒸發(fā)曲線

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3、加熱樣品臺:

16.png


4、熱蒸發(fā)

熱蒸發(fā)模塊性能測試曲線

17.png

注1:Al采用AlN坩堝外纏繞鎢絲蒸發(fā)。

注2:Ni、Ti采用鉬棒纏繞Ni、Ti絲蒸發(fā)


18.png

注:在4寸/6寸范圍內(nèi)取9個點,均勻性值=(Tmax-Tmin)/2(Tmax+Tmin)


5、有機物蒸發(fā):

有機物束源爐性能測試曲線

19.png

20.png

測試條件:Red Prime材料,密度1.0g/cm3


21.png


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