| 紫外高穩(wěn)定性激光器 | UV-F-355/ 1~50mW | | UV-355/ 50~150mW | | UV-355/ 150~300mW | | UV-355/ 300~500mW | | UV-FN-360/ 1~200mW |
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| 355 nm 被動調(diào)Q紫外激光器 | MPL-FN-355/ 1~15uJ/ 1~30mW 脈寬<600ps |
| MPL-F-355/ 0.1~15uJ/ 1~100mW |
| MPL-Q-355/ 0.1~15uJ/ 1~150mW 脈寬可達1.3ns |
| MPL-N-355/ 0.1~90uJ/ 1~800mW |
| MPL-W-355/ 25~80uJ/ 400~2000mW |
| FL-355/ 1~40uJ/ 1~1000mW 激光打標 |
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| 355 nm 主動調(diào)Q紫外激光器 | AO-S-355/ 1~40uJ/ 1~100mW |
| AO-L-355/ 40~100uJ/ 1~300mW |
| AO-V-355/ 3~5W |
| AO-V-355-Water/ 1~250uJ/ 1~5W |
| AO-355A/ 3W/ 5W |
| AO-355W/ 3W/ 5W/ 12W 水冷 |
| EO-XS-355/ 1~50uJ/ 1~2W |
| EO-355-G/ 4~150uJ 高光束質(zhì)量 |
| EO-355-N/ 4~200uJ |
| DPS-355-E/ 1~2mJ |
| DPS-355-Q/ 2~10mJ 水冷 |
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| 355 nm 皮秒脈沖紫外激光器 | DPS-355-Pico/ 100~700mW |
| PS-R-355/ 1~2000mW |
| DPS-355-PS/ 1~6000mW 水冷 |
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| 355 nm 燈泵紫外調(diào)Q激光器 | LPS-355-S/ 20~80mJ |
| LPS-355-L/ 80~200mJ |
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| 355 nm 光纖激光器 | FL-355-PS/ 1~50mW 脈寬 <10 ps |
| FL-355-Pico/ 1~50mW 脈寬 100-900 ps可選 |
| FL-355-Nano/ 1~300mW 脈寬 0.5-50ns可選 |
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| 355 nm 光纖耦合系統(tǒng) | MPL-355 (FC)/ 1~1500mW |
